I-ZnO Sputtering Target
  • I-ZnO Sputtering TargetI-ZnO Sputtering Target
  • I-ZnO Sputtering TargetI-ZnO Sputtering Target
  • I-ZnO Sputtering TargetI-ZnO Sputtering Target

I-ZnO Sputtering Target

A Senxiang (Ningbo) New Materials Co., Ltd. a porlasztó célpontok teljes skáláját kínálja. Biztosítjuk az alapanyagok hosszú távú rendelkezésre állását, folyamatosan törekszünk új termékméretek és geometriai formák kialakítására, gyártókapacitásunk vevői mennyiségi igényekhez való igazítására. Hatalmas beszerzési és gyártási kapacitásával a Senxiang kiváló minőségű i-ZnO porlasztó célpontot tud biztosítani versenyképes áron.

Kérdés küldése

termékleírás

i-ZnO Sputtering Target. A filmleválasztáshoz az egyenáramú (dc) magnetron porlasztórendszert használják. Az ion-asszisztált leválasztás (IAD) technika nélkül/azzal a különböző egyenáramú (például 50 W, 80 W és 100 W) által előállított filmek elektromos, optikai és szerkezeti tulajdonságai optimális IZO-leválasztási feltételeket biztosítanak. rugalmas szerves fénykibocsátó eszközök (OLED) alkalmazásokhoz fejlesztették ki.


Termékparaméter (specifikáció)

Fogalmazás ZnO
Tisztaság ¥99,95%
Sűrűség ï¼g/cm³ï¼ â¥5,4
Elektromos ellenállás
(Ω.cm)
⤠0,5
Elméleti sűrűség (g/cm3) 5.606
Fémszennyeződés
(ppm)
Fe 100 €, Si 100 €, Na 50 €, 20 Pb, 50 körül, egyebek 180
Összesen 500 €
Méret (mm) Síkbeli cél
(50-300)Hx(50-250)Szx(4-15)Ma
Forgó célpont
(133~138)IDx(151~169)ODx(150~260)H


A termék jellemzői és alkalmazása

Vékony film PVãPhotics Glass


termék leírás


Hot Tags: I-ZnO Sputtering Target, Kína, gyártók, beszállítók, gyár, Kínában gyártott, testreszabott

Kapcsolódó kategória

Kérdés küldése

Kérdését az alábbi űrlapon adja meg. 24 órán belül válaszolunk.